Micromaster为高性能准分子激光微纳加工系统；设计紧凑，功能强大的全能型系统；人体工学设计典范；
4~6ns短脉冲193nm，300Hz（500Hz Optional）准分子冷激光，极低热效应累积，实现高质量紫外光子烧蚀；
专利的匀束光组，提供均匀的紫外激光能量分布
Relay Telescope望远光路进一步匀化加工光束
4~15倍PC控制“连续可变”的投影光束缩倍设计提供方便灵活的投影控制
PC控制2x16，32种掩膜版选择
MRA电动控制矩形可变光阑
MRA与标准掩膜版结合，由PC端软件组合生成虚拟掩膜；
紫外加工光路与加工监控光路实时齐焦的共焦设计，配合Through The Lens加工光路同轴视觉监控系统，提供WYSIWYG---所见即所得的加工光束聚焦模式
1.5微米光学分辨率
提供10J/cm2的加工激光能量密度可以胜任高分子、金属薄膜、玻璃、陶瓷、金属....材料的微纳加工
激光能量衰减：10%~75%、100%；或30%~85%，100%可选；调节步长1%
通过r/w惯例程序，实现0.05~0.5um/Shot加工深度控制
X、Y、Z、200x200x50mm冲程，1um位移分辨率，电动控制位移台
450倍同轴变倍加工监控视觉+旁轴40倍加工导航监控视觉，兼顾加工细节和样本总体；双监视器显示；
CE认证
Class1安全互锁
| 激光器： |
| 1，波长：193nm |
| 2，平均功率：3W（5W选配） |
| 3，最大重复频率：300Hz（500/1000Hz选配） |
| 4，脉冲持续时间：4~6ns |
| 5，能量稳定性（1sigma）：≦3% |
| 光学系统： |
| 1，可调光束缩倍，连续变倍缩倍：4x~15x（电动调整）；4x~20x（手动） |
| 2，单次脉冲最大加工范围：≧300x300um |
| 3，光学分辨率：≦1.5um |
| 4，最大能量密度：≧10J/cm2 |
| 5，光束不均匀性：≦4%（2 sigma） |
| 6，衰减器调节范围：10%~75%，100%&30%~85%，100%可选；电动控制，调节步长1% |
| 7，预置标准掩膜版：提供32种不同尺寸、形状的预置掩膜（电动控制选择） |
| 8，可根据用户需求更换光学掩膜； |
| 9，提供动态可变矩形孔阑（动态Mask）MRA;尺寸变化范围：5x5um~2x2um |
| 10，提供加工深度控制：0.05~0.5um/shot（根据材料相关惯例例程） |
| 11，提供虚拟掩膜功能：MRA与预置掩膜组合构成虚拟掩膜（999种虚拟可能）（可存入软件并随时调用） |
| 12，提供450倍加工光路同轴齐焦高倍加工监控机器视觉---实现WYSIWYG---所见即所得加工监控 |
| 13，提供40倍旁轴监控视觉（齐焦设计）---实现WYSIWYG---所见即所得加工监控 |
| 14，Class1互锁安全罩；CE认证 |
| 15，提供加工光路氮气保护功能 |
| 16，提供氦气加工保护气氛功能 |
| 三轴自动控制样品台 |
| 1，X轴、Y轴： |
| 行程：200mm； |
| 重复性（双向）：±1um |
| 精度：±2um/100mm |
| 速度：200mm/sec |
| 分辨率：1um |
| 提供真空吸盘实现平坦样本加工固定 |
| 2，Z轴 |
| 行程：50mm |
| 重复性（双向）：±0.4um（MicroMaster的Z轴调整实际并不需要这个精度----MicroMaster的“所见即所得”设计----加工、监控光路实时齐焦；系统焦深20微米；因此Z轴聚焦非常容易） |
| 精度：±3um/10mm |
| 速度：20mm/sec |
| 分辨率：0.5um |
| 载荷：20kg（X、Y、Z Stage） |
| 3，旋转样品台（选配）---本投标方案已配 |
| 双向重复性：<0.01° 速度：25°/S |
| 计算机及控制系统 |
| 全自动激光，缩倍，衰减，掩膜选择，虚拟掩膜组合，位移控制；支持CAD输入界面，实现自动加工 |
MEMS（微纳机械）科研与工业
石英材料微纳加工、特种玻璃微纳加工
陶瓷材料微纳加工
金属薄膜微纳加工
高分子材料微纳加工
